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用途：获得清洁表面或深度剖析时使用，用于表面分析或光电子能谱实验。

原理：使惰性气体离子化并加速到高能状态，撞击固体表面而实现溅射刻蚀。

特点：离子束流角度可调，离子束流可聚焦，操作简单。

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